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四氟化碳是一種無色、無臭、不燃的可壓縮惰性氣體。它是目前微電子工業中用量最大的等離子蝕刻氣體，廣泛應用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢薄膜材料的燭刻。 在電子器件表面清洗、太陽能電池的生產、激光技術、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗劑、控制宇宙火箭姿態、印刷電路生產中的去污劑等方面也大量使用。

電子級四氟化碳技術指標：

包裝容器：規格齊全，按客戶要求配置。